鑠思百檢測

DETECTION OF TECHNICAL SOUSEPAD

透射電子顯微鏡(TEM-EDS)掃描電子顯微鏡(FESEM-EDS)球差電鏡激光共聚焦顯微鏡(LSCM)原子力顯微鏡(AFM)電子探針儀(EPMA)金相顯微鏡電子背散射衍射儀(EBSD)臺階儀,膜厚儀,探針接觸式輪廓儀,3D輪廓儀工業(yè)CT白光干涉儀(非接觸式3D表面輪廓儀)電鏡測試FIB制樣離子減薄制樣冷凍超薄切片制樣樹脂包埋制樣(生物制樣)液氮脆斷制樣金網(wǎng)鉬網(wǎng)銅網(wǎng)超薄碳膜微柵制樣電鏡制樣X射線光電子能譜分析儀(XPS)紫外光電子能譜(UPS)俄歇電子能譜(AES)X射線衍射儀(XRD)X射線散射儀SAXS/WAXSX射線殘余應力分析儀X射線熒光光譜分析儀(XRF)電感耦合等離子體光譜儀(ICP-OES)紫外可見反射儀(DRS)拉曼光譜(RAMAN)紫外-可見分光光度計(UV)圓二色譜(CD)傅里葉變換紅外光譜分析儀(FTIR)吡啶紅外(DRIFTS)單晶衍射儀穆斯堡爾光譜儀穩(wěn)態(tài)瞬態(tài)熒光光譜分析儀(PL)原子吸收分光光度計原子熒光光度計(AFS)三維熒光 /熒光分光光度計紅外熱成像儀霧度儀旋光儀橢偏儀光譜測試電感耦合等離子體質譜儀(ICP-MS)電噴霧離子化質譜儀(ESI-MS)頂空-固相微萃取氣質聯(lián)用儀(HS -SPME -GC -MS)二次離子質譜(SIMS)基質輔助激光解吸電離飛行時間質譜儀(MALDI-TOF)裂解氣質聯(lián)用儀(PY-GC-MS)氣質聯(lián)用儀(GC-MS)同位素質譜儀液質聯(lián)用儀(LC-MS)質譜測試差示掃描量熱儀(DSC)熱重分析儀(TGA)熱分析聯(lián)用儀(DSC-TGA)靜態(tài)/動態(tài)熱機械分析儀(TMA/DMA)熱重紅外聯(lián)用儀(TG-IR)熱重紅外質譜聯(lián)用儀(TG-IR-MS)熱重紅外氣相質譜聯(lián)用(TG-IR-GC-MS)紅外熱成像儀激光導熱儀錐形量熱儀(CONE)熱譜測試電子順磁共振波譜儀(EPR、ESR)固體核磁共振儀(NMR)液體核磁共振儀(NMR)微波網(wǎng)絡矢量分析儀/矢量網(wǎng)絡分析儀核磁順磁波譜測試比表面及孔徑分析儀(BET)表面張力儀(界面張力儀)高壓吸附儀化學吸附儀(TPD TPR)接觸角測量儀納米壓痕儀壓汞儀(MIP)表界面物性測試氣相色譜儀(GC)高效液相色譜儀(HPLC)離子色譜儀(IC)凝膠色譜儀(GPC)液相色譜(LC)色譜測試電導率儀電化學工作站腐蝕測試儀介電常數(shù)測定儀卡爾費休水分測定儀自動電位滴定儀電化學儀器測試Zeta電位儀工業(yè)分析激光粒度儀流變儀密度測定儀納米粒度儀邵氏 維氏 洛氏硬度計有機鹵素分析儀(F,Cl,Br,I,At,Ts)有機元素分析儀(EA)粘度計振動樣品磁強計(VSM)土壤分析測試植物分析測試其他測試同步輻射GIWAXS GISAXS同步輻射XRD,PDF,SAXS同步輻射吸收譜-高能機時同步輻射吸收譜之軟X射線同步輻射吸收譜之硬X射線同步輻射聚焦離子束掃描電鏡(FIB-SEM)礦物定量分析系統(tǒng)MLA球差校正透射電子顯微鏡高端電鏡類原位XPS測試原位EBSD(in situ -EBSD)原位紅外原位掃描電子顯微鏡(in-situ-SEM)原位透射電子顯微鏡高端原位測試飛行時間二次離子質譜儀(TOF-SIMS)輝光放電光譜(GD-OES MS)三維原子探針(APT)高端質譜類Micro/Nano /工業(yè)CT飛秒瞬態(tài)吸收光譜儀(fs-TAS)掃描隧道顯微鏡深能級瞬態(tài)譜儀正電子湮滅壽命譜儀其他XPS數(shù)據(jù)分析XRD全巖黏土分析表面成分分析技術-XPS測試分析常規(guī)XRD數(shù)據(jù)分析成分指紋分析技術-紅外測試分析二維紅外光譜技術紅外(IR)數(shù)據(jù)分析拉曼數(shù)據(jù)分析三維熒光數(shù)據(jù)分析圓二色譜(CD)數(shù)據(jù)分析成分含量分析EPR/ESR數(shù)據(jù)分析VSM數(shù)據(jù)分析電化學數(shù)據(jù)分析矢量網(wǎng)絡數(shù)據(jù)分析電磁分析CT數(shù)據(jù)分析X射線吸收精細結構普(XAFS)數(shù)據(jù)分析穆斯堡爾譜數(shù)據(jù)分析小角散射(SAXS/WAXS)數(shù)據(jù)分析高端測試分析固體核磁數(shù)據(jù)分析液體核磁(NMR)測試+分析一體化液體核磁(NMR)數(shù)據(jù)分析化學結構分析EBSD數(shù)據(jù)分析TEM數(shù)據(jù)分析單晶XRD數(shù)據(jù)分析晶體結構確證技術-XRD精修XRD定性定量分析晶體結構分析BET數(shù)據(jù)分析其它數(shù)據(jù)分析需求熱分析數(shù)據(jù)處理數(shù)據(jù)分析作圖其他數(shù)據(jù)分析半導體激光器模擬發(fā)光二極管仿真光電探測器仿真太陽能電池仿真半導體器件仿真表面能差分密度磁矩單原子催化電荷密度電解水制氫反應(HER)費米面(fermi surface)電子局域化函數(shù)(electron localization function)第一性原理分子模擬量子化學相分析有限元模擬常規(guī)理化-水樣常規(guī)理化-土樣/沉積物常規(guī)理化-氣體常規(guī)理化-植物/蔬果/農作物常規(guī)理化-食品常規(guī)理化-肥料/飼料常規(guī)理化-巖礦常規(guī)理化-垃圾常規(guī)理化-職業(yè)衛(wèi)生常規(guī)理化-其它常規(guī)理化項目纖維素、半纖維素、木質素含量bcr形態(tài)順序提取/tessier五步提取法土壤水體抗生素微塑料微生物磷脂脂肪酸(PLFA)非標理化-其它非標理化項目穩(wěn)定同位素放射性同位素同位素-其它金屬同位素同位素多糖的單糖組成測定可溶性寡糖定量土壤氨基糖多糖全套分析多糖甲基化植物糖化學-常規(guī)指標糖化學液質聯(lián)用LCMS高效液相色譜HPLC氣相色譜GC氣質聯(lián)用GCMS全二維氣質GC×GC-MS氣相色譜-離子遷移譜聯(lián)用儀(GC-IMS)液相色譜-原子熒光聯(lián)用(LC-AFS)制備型HPLC色譜質譜數(shù)據(jù)分析液相色譜-電感耦合等離子體質譜(LC-ICPMS)色譜質譜DOM(FT- ICR- MS)水質NOM(LC-OCD-OND)DOM(FT-ICR-MS)數(shù)據(jù)分析環(huán)境高端電池產品整體解決方案正極顆粒表面微觀形貌正極顆粒物截面形貌與元素三元正極顆粒循環(huán)前后晶界裂紋正極顆粒摻雜元素分布正極顆粒截面元素分布和晶格表征正極極片原位晶相分析正極極片截面元素分布和晶格表征正極表面CEI膜測試方法XPS正極極片截面微觀形貌觀察和元素分布正極極片CEI膜成分分析與厚度測定正極極片介電常數(shù)正極極片浸潤性正極極片包覆層觀察正極極片雜質含量測定正極極片氧空位測定負極顆粒表面微觀形貌觀察和元素分布負極顆粒截面微觀形貌觀察和元素分布石墨類型判定負極顆粒粒徑分析負極極片孔洞分析負極顆粒包覆層觀察負極顆粒羥基含量測定負極極片包覆層觀察負極表面SEI膜分析XPS法負極極片SEI膜成分分析與厚度測定負極極片截面微觀形貌觀察和元素分布負極極片石墨碳和無定型碳比例隔膜表面微觀形貌觀察隔膜循環(huán)前后孔徑變化質子交換膜形貌(厚度)觀察 CP+SEM質子交換膜雜質元素電池循環(huán)后鼓包氣電池循環(huán)后爆炸氣鋰電池極片和集流體間的粘結強度三元正極材料NCM比例燃料電池-整體解決方案電池產品-隔膜電池產品-優(yōu)勢項目正極材料-PH值正極材料-比表面積正極材料-磁性異物正極材料-化學成分正極材料-晶體結構正極材料-粒徑分布正極材料-首次放電比容量及首次庫倫效率正極材料-水分含量正極材料-松裝密度正極材料-未知物分析正極材料-形貌,厚度與結構正極材料-壓實密度正極材料-振實密度電池產品-正極材料負極材料-PH值負極材料-比表面積負極材料-層間距 石墨化度負極材料成分分析負極材料-磁性異物負極材料-粉末壓實密度負極材料-固定碳含量負極材料-化學成分負極材料-粒徑分布負極材料-石墨鑒定負極材料-水分負極材料-限用物質含量負極材料-形貌與結構負極材料-陰離子的測定負極材料-有機物含量負極材料-真密度負極材料-振實密度負極顆粒-石墨取向性(OI值)首次放電比容量及首次庫倫效率電池產品-負極材料電解液-電導率電解液-化學元素含量電解液-密度電解液-水分含量電解液-未知物分析電解液-游離酸(HF含量)電池產品-電解液電池產品-隔膜電池產品-隔膜
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MicrO Nano 工業(yè)CT

 
價格
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Micro/Nano/工業(yè)CT


設備型號


skysCan2211/ZEISS Xradia520/NIKON XTH 225/320



樣品準備須知?。?!


分辨率:指像素點的大小,比如200nm分辨率,就是圖片中一個像素點的大小是邊長200nm的正方形,一般看清一個特征結構至少3-5個像素點,假設分辨率為“Xμm”,能看清“3Xμm-5 Xμm”的特征結構。

樣品尺寸:樣品尺寸越大,能做的分辨率就越低。

關于數(shù)據(jù)處理:測試得到的原始數(shù)據(jù)是幾十到幾千張二維切面圖。簡單處理:免費提供原始數(shù)據(jù)三維圖,圖片格式,給您看看整體掃描效果,如需分析需要自行用軟件重構,圖片格式的三維圖無法進行分析。高級數(shù)據(jù)分析:需要專業(yè)3D數(shù)據(jù)分析軟件Vgstudio或者Dragonfiy,該軟件沒有破解版,且軟件和數(shù)據(jù)體非常大,需要專業(yè)的圖像處理工作站,普通電腦難以運行。如果需要處理,會根據(jù)相應的需求收據(jù)數(shù)據(jù)處理的費用。



樣品測試填寫要求注意事項


1.樣品數(shù)量填寫需要測試樣品的數(shù)量

2.樣品編號(名稱)請輸入該組樣品編號,以逗號分隔,例如1,2,3

3.樣品材質

如混凝體,巖石,土壤,金屬,電池等

4.樣品尺寸

CT不同測試分辨率,樣品尺寸要求不同,分辨率越高,要求樣品直徑越小,請參考儀器詳情。

5.測試類型普通CT/原位加載CT

收費模式: 按照樣品/按照時間

原位加載所需力的范圍: 0-440N/0-5000N

測試所需分辨率: 分辨率<1微米   分辨率>1微米

原位測試一般試樣比較大,無法做很高精度的分辨率,一般都在1微米以上

原位掃描次數(shù):1次/2次/3

加載力范圍0-440N,計費模式是原位加載臺費用+樣品掃描次數(shù),其中原位加載臺的費用是1000每樣

測試要求具體描述

測試單上傳

請上傳CT的詳細要求測試單,具體測試單可詢問對接項目經理即可

參考文獻上傳

本材料或相似材料的參考文獻。


Micro/Nano 工業(yè)CT

項目簡介


CT是一種非侵入性和非破壞性成像技術,在不破壞樣品的情況下,利用X射線對物體進行掃描,能夠獲得樣品內部三維結構和形貌信息。納米、微米CT適用于小尺寸樣品高分辨率的檢測,分辨率和樣品尺寸的對應關系見下表;工業(yè)CT適合大尺寸樣品檢測,320kV強力的微焦點射線源,擁有優(yōu)秀的解析度與精度,適用于高密度的大型工業(yè)樣品檢測,5軸馬達載物臺臺最大可放置質量100kg的樣品。


樣品要求


分辨率:指像素點的大小,比如200nm分辨率,就是圖片中一個像素點的大小是邊長200nm的正方形,一般看清一個特征結構至少3-5個像素點,假設分辨率為“Xμm”,能看清“3Xμm-5 Xμm”的特征結構。

樣品尺寸:樣品尺寸越大,能做的分辨率就越低,不同儀器像素不同,對樣品尺寸要求不同,下表僅供參考,具體請聯(lián)系工程師確認。


分辨率
高度和直徑(mm
分辨率
高度和直徑(mm
200nm
0.7
800nm
3.1
300nm
1.1
900nm
3.5
400nm
1.5
1um
4
500nm
1.9
2um
4
600nm
2.3
X>2um
2X
700nm
2.7
工業(yè)CTX um
X




結果展示




常見問題


1. 如何確定所需分辨率?

答:根據(jù)我們要觀察的結構尺寸可以初步推算所需分辨率,通常需要觀測的結構下探測器上的投影,需要100%覆蓋1-3個探元,結構才能測到,由于樣品的擺放等因素,投影必須覆蓋3-5個探元,才能成功觀測,反映在分辨率上,需要結構的尺寸在數(shù)值上是分辨率的3-5倍;比如觀測的孔隙直徑為120um,則需要分辨率達到24-40um才能得到較為清晰的圖片。

2. CT數(shù)據(jù)處理軟件有哪些?

答:目前常見的處理軟件有三種,分別是VG、AvizoDragonfly

VG:適合于工業(yè)方向,機械制造的數(shù)據(jù)分析,常用功能包括鑄件中的氣孔、縮松的量化分析,壁厚分析,設計與實物對比(數(shù)模比對),尺寸測量等;

Avizo:適合于科研方向的數(shù)據(jù)處理,材料科學油氣地質和生物領域,如圖像分割,量化分析等,多用于樣品中不同成分的區(qū)分提??;

Dragonfly:在生物方向功能豐富,建立分割模型,可以對大量數(shù)據(jù)進行批量處理,提高數(shù)據(jù)處理效率。




測試提示:


1.可開正規(guī)測試發(fā)票,附帶測試清單。

2.有腐蝕性,毒性,或其他有危害性等特殊樣品要事先告知測試人員,測試人員也要告知樣品方哪些樣品不能測或會對儀器產生損傷,測試后會對樣品產生哪些變化;

3.客戶需提供詳細的樣品資料,包括元素,主要成分和詳細測試參數(shù)及條件。和測試人員充分討論,商定最終測試條件;

4.測試人員與顧客通過QQ,微信或郵件溝通,出現(xiàn)測試糾紛,郵件或聊天記錄將作為重要的仲裁依據(jù);請加QQ和技術人員交流。QQ:82187958。微信:15071040697

5.杜絕測試、解析和合成違反國家相關法律法規(guī)的樣品,一經發(fā)現(xiàn)將追究其法律責任。




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