XPS分峰步驟

鑠思百檢測(cè)可為您提供X射線光電子能譜技術(shù)（XPS測(cè)試）服務(wù)，X射線光電子能譜技術(shù)是一種表面分析方法，廣泛應(yīng)用于金屬、無(wú)機(jī)材料、催化劑、聚合物、涂層材料礦石等各種材料的研究，以及腐蝕、摩擦、潤(rùn)滑、粘接、催化、包覆、氧化等過(guò)程。的研究。

在做X射線光電子能譜(XPS)測(cè)試時(shí)，鑠思百檢測(cè)在與很多同學(xué)溝通中了解到，好多同學(xué)僅僅是通過(guò)文獻(xiàn)或者師兄師姐的推薦對(duì)XPS有了解，但是對(duì)于其XPS分峰還屬于小白階段，針對(duì)此，鑠思百檢測(cè)組織相關(guān)同事對(duì)網(wǎng)上海量知識(shí)進(jìn)行整理，希望可以幫助到科研圈的伙伴們；

XPS分峰步驟：

1.將所拷貝數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成TXT格式:把所需擬合元素 的數(shù)據(jù)引入Origin后,將column A和B中的值復(fù)制 到一空的記事本文檔中(即成兩列的格式,左邊 為結(jié)合能,右邊為峰)，并存盤。如要對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行去脈沖處理或截取其中一部分?jǐn)?shù)據(jù)，需在Origin中做好處理。

2.打開(kāi)XPS Peak,引入數(shù)據(jù):點(diǎn)Data----Import(ASCII),引入所存數(shù)據(jù),則出現(xiàn)相應(yīng)的XPS譜圖。

3.選擇本底:點(diǎn) Background,因軟件問(wèn)題,High BE和Low BE的位置最好不改，否則無(wú)法再回到Origin，此時(shí)本底將連接這兩點(diǎn)，Type可據(jù)實(shí)際情況選擇，一般選擇Shirley類型。

4.加峰：點(diǎn)Addpeak出現(xiàn)小框在PeakType處選擇s、p、d、f等峰類型(一般選s)在Position處選擇希望的峰位需固定時(shí)則點(diǎn)fix前小方框同法還可選半峰寬(FWHM)、峰面積等。各項(xiàng)中的constraints可用來(lái)固定此峰與另一峰的關(guān)系,如Pt4f7/2和Pt4f5/2的峰位間距可固定為45,峰面 積比可固定為4:3等。點(diǎn)Delete peak可去掉此峰。然后再點(diǎn)Add peak選第二個(gè)峰，如此重復(fù)。

5.擬合:選好所需擬合的峰個(gè)數(shù)及大致參數(shù)后,點(diǎn)Optimise region進(jìn)行擬合,觀察擬合后總峰與原始峰的重合情況,如不好,可多次點(diǎn)Optimise region。

6.參數(shù)查看：擬合完成后，分別點(diǎn)另一個(gè)窗口中的Rigion Peaks下方的0、1、2等可看每個(gè)峰的參數(shù)，此時(shí)XPS峰中變紅的為被選中的峰。如對(duì)擬合結(jié)果不region滿意，可改變這些峰的參數(shù)，然后再點(diǎn)Optimise。

7.點(diǎn)Save XPS存圖，下回要打開(kāi)時(shí)點(diǎn)Open XPS就可以打開(kāi)這副圖繼續(xù)進(jìn)行處理。

8.數(shù)據(jù)輸出：點(diǎn)Data――Print with peak parameters可打印帶各峰參數(shù)的譜圖，通過(guò)峰面積可計(jì)算此元素在不同峰位的化學(xué)態(tài)的含量比。

點(diǎn)Data――Export to clipboard，則將圖和數(shù)據(jù)都復(fù)制到了剪貼板上，打開(kāi)文檔（如Word文檔），點(diǎn)粘貼，就把圖和數(shù)據(jù)粘貼過(guò)去了。

點(diǎn)Data――Export （spectrum），則將擬合好的數(shù)據(jù)存盤，然后在Origin中從多列數(shù)據(jù)欄打開(kāi)，則可得多列數(shù)據(jù)，并在Origin中作出擬合后的圖。

以上是XPS分峰步驟的詳細(xì)介紹，更多問(wèn)題可以聯(lián)系鑠思百檢測(cè)工程師！