FIB制樣-聚焦離子束制樣
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預(yù)約詳情 儀器名稱: FIB制樣 型 號(hào): FEI Helios Nanolab 600i 檢測(cè)項(xiàng)目: 應(yīng)用范圍: 利用電透鏡將離子束聚焦成非常小尺寸的離子束轟擊材料表 面,實(shí)現(xiàn)材料的剝離、沉積、注入、切割和改性。廣泛應(yīng)用于 半導(dǎo)體集成電路修改、離子注入、切割和故障分析等。 制樣要求: 1.樣品大小5×5×1cm,當(dāng)樣品過大需切割取樣。 2.樣品需導(dǎo)電,不導(dǎo)電樣品必須能噴金增加導(dǎo)電性。 3.切割深度必須小于50微米。 4.易氧化,易潮樣品需備注說明,QQ溝通。 測(cè)試提示: 1.可開正規(guī)測(cè)試發(fā)票,附帶測(cè)試清單。 2.有腐蝕性,毒性,或其他有危害性等特殊樣品要事先告知測(cè)試人員,測(cè)試人員也要告知樣品方哪些樣品不能測(cè)或會(huì)對(duì)儀器產(chǎn)生損傷,測(cè)試后會(huì)對(duì)樣品產(chǎn)生哪些變化; 3.客戶需提供詳細(xì)的樣品資料,包括元素,主要成分和詳細(xì)測(cè)試參數(shù)及條件。和測(cè)試人員充分討論,商定最終測(cè)試條件; 4.測(cè)試人員與顧客通過QQ或郵件溝通,出現(xiàn)測(cè)試糾紛,郵件或聊天記錄將作為重要的仲裁依據(jù);請(qǐng)加QQ和技術(shù)人員交流:82187958。 5.杜絕測(cè)試、解析和合成違反國(guó)家相關(guān)法律法規(guī)的樣品,一經(jīng)發(fā)現(xiàn)將追究其法律責(zé)任。 |
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