X射線光電子能譜儀(XPS)-XPS譜圖中的譜線結(jié)構(gòu)及化學(xué)元素分析 二維碼
發(fā)表時(shí)間:2021-04-23 10:29作者:鑠思百檢測(cè)來(lái)源:鑠思百檢測(cè) 一、XPS 譜圖中有哪些重要的譜線結(jié)構(gòu)?具體是什么?XPS 譜圖一般包括光電子譜線,衛(wèi)星峰(伴峰),俄歇電子譜線,自旋- 軌道分裂(SOS)等 1、光電子譜線:每一種元素都有自己特征的光電子線,它是元素定性分析的主要依據(jù)。譜圖中強(qiáng)度最大、峰寬最小、對(duì)稱(chēng)性最好的譜峰,稱(chēng)為XPS 的主譜線。 實(shí)例說(shuō)明一:上圖中,對(duì)于In 元素而言,In 3d 強(qiáng)度最大、峰寬最小,對(duì)稱(chēng)性最好,是In 元素的主譜線。而除了主譜線In 3d 之外,其實(shí)還有In 4d,In 3p 等其它譜線,這是因?yàn)镮n 元素有多種內(nèi)層電子, 因而可以產(chǎn)生多種In XPS 信號(hào)。 2、衛(wèi)星峰(伴峰):常規(guī)X射線源(Al/Mg Kα1,2)并非是單色的,而是還存在一些能量略高的小伴線(Kα3,4,5和Kβ等),所以導(dǎo)致XPS 中,除Kα1,2 所激發(fā)的主譜外,還有一些小的伴峰。 實(shí)例說(shuō)明二:上圖為Mg 陽(yáng)極X 射線激發(fā)的C1s 主峰(α1,2)及伴峰(α3,4,5和β)。從圖中可以看出,主峰的強(qiáng)度比伴峰要強(qiáng)很多。 3、俄歇電子譜線:電子電離后,芯能級(jí)出現(xiàn)空位,弛豫過(guò)程中若使另一電子激發(fā)成為自由電子,該電子即為俄歇電子。俄歇電子譜線總是伴隨著XPS,但具有比XPS 更寬更復(fù)雜的結(jié)構(gòu),多以譜線群的方式出現(xiàn)。特征:其動(dòng)能與入射光hν無(wú)關(guān)。 實(shí)例說(shuō)明三:上圖中O KLL, C KLL 即為O 和C 的俄歇電子譜線,從圖中可以看到O KLL 其實(shí)有三組峰,最左邊的為起始空穴的電子層,中間的是填補(bǔ)起始空穴的電子所屬的電子層,右邊的是發(fā)射俄歇電子的電子層。 4、自旋- 軌道分裂(SOS):由于電子的軌道運(yùn)動(dòng)和自旋運(yùn)動(dòng)發(fā)生耦合后使軌道能級(jí)發(fā)生分裂。對(duì)于l>0 的內(nèi)殼層來(lái)說(shuō),用內(nèi)量子數(shù)j(j=|l±m(xù)s|)表示自旋軌道分裂。即若l=0 則j=1/2;若l=1 則j=1/2 或3/2。除s 亞殼層不發(fā)生分裂外,其余亞殼層都將分裂成兩個(gè)峰。 實(shí)例說(shuō)明四:上圖所示為PbO 的XPS 譜圖,圖中Pb 4f 裂分成4f5/2 和4f7/2 兩個(gè)峰。 重要意義:對(duì)于某一特定價(jià)態(tài)的元素而言,其p,d,f 等雙峰譜線的雙峰間距及峰高比一般為一定值。p 峰的強(qiáng)度比為1:2;d 線為2:3;f 線為3:4。對(duì)于p 峰,特別是4p 線,其強(qiáng)度比可能小于1:2。 雙峰間距也是判斷元素化學(xué)狀態(tài)的一個(gè)重要指標(biāo)。 5、鬼峰:有時(shí),由于X 射源的陽(yáng)極可能不純或被污染,則產(chǎn)生的X 射線不純。因非陽(yáng)極材料X 射線所激發(fā)出的光電子譜線被稱(chēng)為“鬼峰”。 二、化合物中元素種類(lèi)的分析——全譜分析1、什么時(shí)候需要進(jìn)行全譜分析(XPS survey)?全譜分析的目的是什么?全譜分析一般用來(lái)說(shuō)明樣品中是否存在某種元素。比較極端的,對(duì)于某一化學(xué)成分完全未知的樣品,可以通過(guò)XPS 全譜分析來(lái)確定樣品中含有哪些元素(H 和He 除外)。 而更多情況下,人們采用已知成分的原料來(lái)合成樣品,然后通過(guò)XPS 全譜來(lái)確定樣品中到底含有哪些元素;或者對(duì)某一已知成分的樣品進(jìn)行某種處理(摻雜或者脫除),然后通過(guò)XPS 全譜分析來(lái)確定元素組成,最終證實(shí)這種處理手段的有效性。 實(shí)例說(shuō)明五:J. Appl. Phys. 2014,116, 213911 一文中,采用XPS 全譜分析來(lái)對(duì)比AlN 和AlN:Er, 證實(shí)reactive magnetron sputtering 處理后,Er 成功摻雜到AlN 薄膜中。 實(shí)例說(shuō)明六:Appl. Catal. B:Environ. 2009,595–602. 一文中采用XPS全譜分析來(lái)說(shuō)明Fe 成功摻雜到TiO2 nanorod 中。 從以上兩個(gè)例子中可以看出,全譜分析主要看峰的有無(wú),進(jìn)而確定是否存在該元素。 2、全譜分析有何不足之處?全譜分析所得到的信號(hào)比較粗糙,只是對(duì)元素進(jìn)行粗略的掃描,確定元素有無(wú)以及大致位置。對(duì)于含量較低的元素而言,信噪比很差,不能得到非常精細(xì)的譜圖。通常,全譜分析只能得到表面組成信息,得不到準(zhǔn)確的元素化學(xué)態(tài)和分子結(jié)構(gòu)信息等。 3、XPS 全譜分析與EDS 有何異同?a. EDS 與XPS 的相同點(diǎn):兩者均可以用于元素的定性和定量檢測(cè)。 b. EDS 與XPS 的不同點(diǎn): 1) 基本原理不一樣:簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō),XPS 是用X 射線打出電子,檢測(cè)的是電子;EDS 則是用電子打出X 射線,檢測(cè)的是X 射線。 2) EDS 只能檢測(cè)元素的組成與含量EDS不能測(cè)定元素的價(jià)態(tài),且EDX 的檢測(cè)限較高(含量>2%),即其靈敏度較低。而XPS 既可以測(cè)定表面元素和含量,又可以測(cè)定表其價(jià)態(tài)。XPS 的靈敏度更高,最低檢測(cè)濃度>0.1%。 3) 用法不一樣:EDS 常與SEM,TEM 聯(lián)用,可以對(duì)樣品進(jìn)行點(diǎn)掃,線掃,面掃等,能夠比較方便地知道樣品的表面(和SEM 聯(lián)用)或者體相(和TEM 聯(lián)用)的元素分布情況;而XPS 則一般獨(dú)立使用,對(duì)樣品表面信息進(jìn)行檢測(cè),可以判定元素的組成,化學(xué)態(tài),分子結(jié)構(gòu)信息等。 備注:EDS 或EDX 指能量色散X 射線光譜儀,全稱(chēng)為Energy Dispersive X-ray Spectroscopy。 三、化合物中元素化學(xué)態(tài)與結(jié)構(gòu)分析——窄區(qū)掃描(高分辨譜)1. 什么叫荷電校正?為什么需要進(jìn)行荷電校正?當(dāng)用XPS 測(cè)量絕緣體或者半導(dǎo)體時(shí),由于光電子的連續(xù)發(fā)射而得不到電子補(bǔ)充,使得樣品表面出現(xiàn)電子虧損,這種現(xiàn)象稱(chēng)為“荷電效應(yīng)”。荷電效應(yīng)將使樣品表面出現(xiàn)一穩(wěn)定的電勢(shì)Vs,對(duì)電子的逃離有一定束縛作用。因此荷電效應(yīng)將引起能量的位移,使得測(cè)量的結(jié)合能偏離真實(shí)值,造成測(cè)試結(jié)果的偏差。在用XPS 測(cè)量絕緣體或者半導(dǎo)體時(shí),需要對(duì)荷電效應(yīng)所引起的偏差進(jìn)行校正(荷電校正的目的),稱(chēng)之為“荷電校正”。 2. 如何進(jìn)行荷電校正?最常用的,人們一般采用外來(lái)污染碳的C1s 作為基準(zhǔn)峰來(lái)進(jìn)行校準(zhǔn)。以測(cè)量值和參考值(284.8 eV)之差作為荷電校正值(Δ) 來(lái)矯正譜中其他元素的結(jié)合能。 具體操作:1) 求取荷電校正值:C 單質(zhì)的標(biāo)準(zhǔn)峰位(一般采用284.8 eV)- 實(shí)際測(cè)得的C 單質(zhì)峰位= 荷電校正值Δ;2) 采用荷電校正值對(duì)其他譜圖進(jìn)行校正:將要分析元素的XPS 圖譜的結(jié)合能加上Δ,即得到校正后的峰位(整個(gè)過(guò)程中XPS 譜圖強(qiáng)度不變)。 將校正后的峰位和強(qiáng)度作圖得到的就是校正后的XPS 譜圖。 3、如何通過(guò)高分辨譜判定樣品中某種元素的價(jià)態(tài)?高分辨譜定性分析元素的價(jià)態(tài)主要看兩個(gè)點(diǎn):1)可以對(duì)照標(biāo)準(zhǔn)譜圖值(NIST 數(shù)據(jù)庫(kù)或者文獻(xiàn)值)來(lái)確定譜線的化合態(tài);2)對(duì)于p,d,f 等具有雙峰譜線的(自旋裂分),雙峰間距也是判斷元素化學(xué)狀態(tài)的一個(gè)重要指標(biāo)。 4. 高分辨譜的其他常見(jiàn)用途實(shí)際上,多數(shù)情況下,人們關(guān)心的不僅僅是表面某個(gè)元素呈幾價(jià),更多的是對(duì)比處理前后樣品表面元素的化學(xué)位移變化,通過(guò)這種位移的變化來(lái)說(shuō)明樣品的表面化學(xué)狀態(tài)或者是樣品表面元素之間的電子相互作用。 一般,某種元素失去電子,其結(jié)合能會(huì)向高場(chǎng)方向偏移,某種元素得到電子,其結(jié)合能會(huì)向低場(chǎng)方向偏移,對(duì)于給定價(jià)殼層結(jié)構(gòu)的原子, 所有內(nèi)層電子結(jié)合能的位移幾乎相同. 這種電子的偏移偏向可以給出元素之間電子相互作用的關(guān)系。 實(shí)例說(shuō)明七:下圖所示是PtPd 形成合金后其表面電子結(jié)構(gòu)的變化,從圖中可以看出,形成Pt1Pd3 之后,Pd3d 向低場(chǎng)偏移,Pt4f 向高場(chǎng)偏移,說(shuō)明Pd 得到電子,Pt 失去電子,也就是說(shuō)形成合金后,Pt 上的電子部分轉(zhuǎn)移給Pd。PtPd 的這種電子轉(zhuǎn)移也是其形成合金的一個(gè)證據(jù)。
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